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1、真空設備--產生、改善或維持真空的裝置。包括各種獲得粗、低、中、高及超高的真空泵和真空機組。
A、機械真空泵：旋片泵、往復泵、滑閥泵、羅茨泵、分子泵和液環泵等。
B、蒸汽流真空泵：水蒸汽噴射泵、油增壓泵和油擴散泵等。
C、氣體捕集真空泵：鈦濺射離子泵、低溫泵、分子篩吸附泵和鋯鋁吸氣泵等。
D、真空機組：即由產生真空、測量真空和控制真空等組件組成的各類機組。
2、真空應用設備～在真空環境下(低于一個大氣壓的氣體狀態)，應用的各種設備。
A、真空鍍膜機：蒸發鍍膜機、磁控濺射鍍膜機、離子鍍膜機和等離子化學沉積裝置等。
B、真空冶煉爐：電阻爐、電子束爐、電弧爐、感應爐和單晶爐等。
C、真空熱處理爐：淬火爐、回火爐、退火爐、滲碳爐、滲氮爐和滲金屬爐等。
D、其它真空設備：冷凍干燥設備、蒸餾設備、提純設備、浸漬設備、果蔬保鮮設備、運輸設備、空間模擬設備、包裝機和鋼水脫氣裝置等。
3、真空測量儀器一測量低于一個大氣壓的氣體和蒸汽壓力的儀器。
A、低真空計(測量范圍105---102Pa)。
B、中真空計(測量范圍l02一l0-1Pa)。
C、高真空計(測量范圍l0-1一10-5Pa)。
D、超高真空計(測量范圍< 10-5Pa)。
4、真空檢漏儀一檢測真空系統或元件漏孔的位置或漏率的儀器。包括高頻火花檢漏儀、鹵素檢漏儀和氦質譜檢漏儀等。
5、真空閥門一在真空系統中，用于調節流量、切斷或接通管路的元件。包括插板閥、擋板閥、電磁閥、電磁帶放氣閥、隔膜閥和調節閥等。
